2020年中國光刻機產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀和競爭分析
2020-08-12 10:48
前瞻網(wǎng)
關(guān)注
技術(shù)發(fā)展——技術(shù)仍在不斷進步中
光刻機一般可以分為無掩模光刻機和有掩模光刻機，其具體分類如下：
光刻工藝流程較多，占晶圓制造耗時的40％－50％，光刻技術(shù)也在不斷的發(fā)展，自光刻機面世以來，光刻設(shè)備已經(jīng)進行了四次重大的革新，光刻設(shè)備所用的光源，也從最初的g－line，i－line歷經(jīng)KrF、ArF發(fā)展到了如今的EUV。目前，EUV光刻機設(shè)備被ASML完全壟斷，ASML的EUV光刻機市占率達到100％。
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